Открыть сервис

Лазерное травление

Лазерное травление — это технологический процесс удаления поверхностного слоя материала с помощью сфокусированного лазерного луча, основанный на локальном нагреве, испарении (абляции) или химическом разложении вещества. Относится к методам лазерной обработки материалов и широко применяется в микроэлектронике, машиностроении, ювелирном деле, производстве печатных плат и для создания декоративных или функциональных рисунков. В отличие от механического гравирования, лазерное травление не требует физического контакта инструмента с заготовкой, что минимизирует износ оснастки и позволяет обрабатывать хрупкие, твёрдые или термочувствительные материалы.

История

Первые эксперименты по использованию лазеров для обработки материалов начались вскоре после создания первого рабочего лазера Теодором Майманом в 1960 году. В 1962 году советские учёные Н. Г. Басов, Ю. М. Попов и другие продемонстрировали возможность лазерной абляции диэлектриков. Однако промышленное применение лазерного травления стало возможным только в 1970-х годах с развитием импульсных твердотельных лазеров на неодимовом стекле и углекислотных (CO₂) лазеров.

В 1980-е годы лазерное травление начали активно внедрять в микроэлектронику для подгонки резисторов, прорезания отверстий в керамических подложках и маркировки корпусов микросхем. В СССР разработкой методов лазерной обработки занимались в Институте общей физики АН СССР и на предприятиях Министерства электронной промышленности. С появлением в 1990-х годах волоконных и диодных лазеров технология стала доступнее для малого бизнеса и художественных мастерских. В XXI веке развитие ультракороткоимпульсных (пикосекундных и фемтосекундных) лазеров позволило выполнять травление с субмикронной точностью без термического повреждения окружающих участков.

Физические основы

Лазерное травление основано на поглощении энергии лазерного излучения поверхностным слоем материала. При достаточной плотности мощности (обычно от 10⁵ до 10⁹ Вт/см²) происходит нагрев до температуры плавления или испарения. Основные механизмы удаления материала:

Глубина травления за один импульс обычно составляет от 0,1 до 10 мкм и зависит от длины волны, длительности импульса, плотности энергии и свойств материала (коэффициент поглощения, теплопроводность, теплоёмкость).

Оборудование

Основные компоненты установки для лазерного травления:

Виды лазерного травления

По типу воздействия

По режиму работы

Применение

Промышленность

Медицина

Искусство и дизайн

Научные исследования

Преимущества и недостатки

Преимущества

Недостатки

Безопасность

Лазерное оборудование относится к классам опасности 3B или 4 по международному стандарту IEC 60825. Основные риски:

В России эксплуатация лазерных установок регламентируется санитарными нормами СанПиН 1.2.3685-21 и правилами по охране труда при работе с лазерами (ПОТ РМ-004-97).

Сравнение с другими методами

ПараметрЛазерное травлениеХимическое травлениеМеханическая гравировка
Контакт с заготовкойНетДа (жидкий реагент)Да (резец)
Точность1–10 мкм10–100 мкм10–50 мкм
Скорость обработкиСредняяВысокая (массовое производство)Низкая–средняя
ЭкологичностьВысокаяНизкая (кислоты, щёлочи)Средняя (стружка, СОЖ)
Стоимость оснасткиВысокая (лазер)Средняя (ванны, маски)Низкая (резцы)
МатериалыШирокий спектрМеталлы, стекло, керамикаМеталлы, дерево, пластик

Интересные факты

Источники

BFOmetr — база данных и аналитика по компаниям России.

На главную BFOmetr →