Институт физики полупроводников
Институт физики полупроводников — научно-исследовательское учреждение, занимающееся фундаментальными и прикладными исследованиями в области физики полупроводников, полупроводниковых материалов, наноструктур и микроэлектроники. В России и странах постсоветского пространства существует несколько организаций с таким названием, наиболее известными из которых являются Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук (ИФП СО РАН, Новосибирск) и Институт физики полупроводников Национальной академии наук Украины (ИФП НАН Украины, Киев). Данная статья посвящена преимущественно ИФП СО РАН как одному из ведущих академических институтов России в данной области.
История
Основание и первые годы
Институт физики полупроводников СО РАН был основан в 1964 году в Новосибирском научном центре (Академгородок) как самостоятельное подразделение Сибирского отделения АН СССР. Инициатором создания выступил академик Анатолий Васильевич Ржанов, который стал первым директором института и руководил им до 1992 года. Первоначально институт создавался для развития исследований в области физики твёрдого тела, полупроводниковых материалов и технологий микроэлектроники, что было актуально в связи с бурным развитием вычислительной техники и радиоэлектроники в СССР.
В первые годы институт занимался изучением электронных свойств полупроводников, разработкой методов получения чистых монокристаллов кремния и германия, а также исследованием процессов эпитаксии. В 1967 году при институте был создан Специальный конструкторско-технологический институт прикладной микроэлектроники (СКТИ ПМ), который занимался внедрением разработок в промышленность.
Развитие в 1970–1980-е годы
В 1970-е годы институт активно развивал направление физики поверхности и тонких плёнок. Были созданы уникальные вакуумные установки для молекулярно-лучевой эпитаксии, что позволило выращивать высококачественные гетероструктуры. В 1975 году институт получил статус головной организации по проблеме «Физика полупроводников» в рамках АН СССР. В 1980-е годы здесь были разработаны первые в СССР полупроводниковые лазеры на основе гетероструктур, а также созданы технологии получения арсенида галлия (GaAs) и фосфида индия (InP).
Постсоветский период
После распада СССР институт столкнулся с сокращением бюджетного финансирования и оттоком кадров. Тем не менее, в 1990-е годы удалось сохранить основные научные школы и лаборатории. В 1997 году институту было присвоено имя основателя — академика А. В. Ржанова. В 2000-е годы началось активное обновление приборной базы, в том числе за счёт грантов Российского фонда фундаментальных исследований (РФФИ) и Российского научного фонда (РНФ). В 2013 году институт вошёл в состав Федерального исследовательского центра «Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН» (ФИЦ ИФП СО РАН), объединив несколько научных подразделений.
Структура и направления деятельности
Основные лаборатории и отделы
Институт включает более 20 научных лабораторий, сгруппированных по нескольким тематическим направлениям:
- Лаборатория физики полупроводниковых приборов — занимается исследованием квантовых эффектов в наноструктурах, разработкой полевых транзисторов и фотоприёмников.
- Лаборатория молекулярно-лучевой эпитаксии — выращивает гетероструктуры для лазеров и светодиодов.
- Лаборатория физики поверхности — изучает адсорбцию, катализ и электронные свойства поверхностей полупроводников.
- Лаборатория рентгеновской и электронной микроскопии — обеспечивает диагностику материалов с атомным разрешением.
- Лаборатория физики низкоразмерных систем — исследует квантовые точки, квантовые ямы и сверхрешётки.
Фундаментальные исследования
Основные направления фундаментальных исследований включают:
- Электронные и оптические свойства полупроводниковых наноструктур.
- Физика поверхностных явлений и границ раздела.
- Квантовая теория твёрдого тела и моделирование электронных свойств.
- Исследование дефектов и примесей в полупроводниках.
- Физика полупроводниковых гетероструктур и сверхрешёток.
Прикладные разработки
Институт активно занимается прикладными работами, в том числе:
- Разработка технологии выращивания монокристаллов кремния, арсенида галлия, нитрида галлия (GaN) и других материалов.
- Создание полупроводниковых лазеров для оптической связи и медицинской техники.
- Разработка фотоприёмников для инфракрасного и ультрафиолетового диапазонов.
- Проектирование и изготовление микроэлектронных компонентов для космической и оборонной промышленности.
- Разработка датчиков газа, температуры и давления на основе полупроводниковых структур.
Ключевые достижения
Научные результаты
За годы работы институт получил ряд значимых результатов:
- В 1970-е годы впервые в СССР реализована молекулярно-лучевая эпитаксия гетероструктур на основе арсенида галлия.
- Разработаны и изготовлены первые отечественные полупроводниковые лазеры непрерывного действия (1980-е годы).
- Созданы технологии получения сверхрешеток с квантовыми ямами для оптоэлектроники.
- В 2000-е годы получены рекордные значения подвижности электронов в двумерном электронном газе на гетероструктурах AlGaAs/GaAs.
- Разработаны методы синтеза нанокристаллов кремния для фотоники.
Патенты и лицензии
Институт ежегодно получает десятки патентов на изобретения в области полупроводниковых материалов и приборов. Часть разработок лицензирована промышленным предприятиям, в том числе:
- Технология выращивания монокристаллов GaN для светодиодов.
- Метод изготовления фотоприёмников на основе квантовых точек.
- Способ создания полевых транзисторов с высокой подвижностью электронов (HEMT).
Образовательная деятельность
Институт тесно связан с Новосибирским государственным университетом (НГУ) и Новосибирским государственным техническим университетом (НГТУ). На базе института действуют базовые кафедры:
- Кафедра физики полупроводников физического факультета НГУ.
- Кафедра микроэлектроники факультета радиотехники и электроники НГТУ.
Сотрудники института читают лекции, руководят курсовыми и дипломными работами, а также аспирантами. Ежегодно институт выпускает до 20 кандидатов наук.
Международное сотрудничество
Институт поддерживает научные связи с ведущими мировыми центрами физики полупроводников, включая:
- Институт физики твёрдого тела Общества Макса Планка (Штутгарт, Германия).
- Лабораторию микроэлектроники и нанотехнологий (CNRS, Франция).
- Университет Тохоку (Сендай, Япония).
- Институт полупроводников Академии наук Китая (Пекин).
Совместные проекты реализуются в рамках программ РНФ, РФФИ, а также международных грантов (например, INTAS, CRDF).
Материально-техническая база
Институт располагает уникальным оборудованием, включая:
- Установки молекулярно-лучевой эпитаксии (MBE) производства Riber и Veeco.
- Сканирующие электронные микроскопы (SEM) и просвечивающие электронные микроскопы (TEM) с атомным разрешением.
- Рентгеновские дифрактометры для анализа кристаллической структуры.
- Оптические спектрометры для исследования фотолюминесценции и комбинационного рассеяния.
- Чистые комнаты класса 1000 и 100 для сборки и тестирования приборов.
Критика и проблемы
Как и многие академические институты России, ИФП СО РАН сталкивается с рядом проблем:
- Старение приборной базы — часть оборудования была приобретена в 1990-е годы и требует замены.
- Отток молодых кадров в коммерческий сектор и за рубеж.
- Недостаточное финансирование фундаментальных исследований в сравнении с западными аналогами.
- Бюрократические сложности при оформлении грантов и отчётности.
Тем не менее, институт сохраняет лидирующие позиции в ряде направлений, особенно в области эпитаксии и физики низкоразмерных систем.
Известные сотрудники
- Анатолий Васильевич Ржанов (1920–2000) — основатель и первый директор института, академик АН СССР, специалист по физике полупроводников.
- Владимир Петрович Попов (род. 1938) — доктор физико-математических наук, заведующий лабораторией, автор работ по квантовым точкам.
- Александр Георгиевич Мильвов (род. 1945) — член-корреспондент РАН, специалист по эпитаксии гетероструктур.
Интересные факты
- В 1970-е годы в институте была разработана технология получения «бескислородного» кремния, который использовался в космической электронике.
- На базе института в 1980-е годы создан первый в СССР полупроводниковый лазер с непрерывной накачкой, работавший при комнатной температуре.
- В 2010 году институт совместно с НГУ запустил программу «Нанотехнологии и микроэлектроника», в рамках которой студенты проходят практику на оборудовании института.
Источники
- Официальный сайт Института физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН (раздел «История»).
- А. В. Ржанов. «Физика полупроводников в Сибири: становление и развитие». — Новосибирск: Изд-во СО РАН, 1995.
- Годовые отчёты ИФП СО РАН за 2000–2023 годы.
- Материалы конференции «Физика полупроводников: фундаментальные и прикладные аспекты» (Новосибирск, 2022).
- Данные из базы Scopus по публикациям сотрудников института.
BFOmetr — база данных и аналитика по компаниям России.
На главную BFOmetr →