ASML

ASML — нидерландская компания, один из крупнейших в мире производителей оборудования для фотолитографии, используемого в полупроводниковой промышленности. Полное наименование — ASML Holding N.V. Штаб-квартира расположена в городе Велдховен (Нидерланды). Компания специализируется на разработке и производстве литографических систем, необходимых для создания микросхем, и является монополистом в сегменте оборудования для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV).

История

Основание и ранние годы

Компания была основана в 1984 году как совместное предприятие нидерландской компании Philips и нидерландско-британской компании ASM International (ASMI). Первоначально называлась «ASM Lithography» и базировалась в Велдховене. В 1995 году ASML провела первичное публичное размещение акций на фондовых биржах Амстердама и Нью-Йорка.

Развитие в 1990–2000-х годах

В 1990-е годы компания сосредоточилась на разработке систем глубокого ультрафиолета (DUV) с длиной волны 248 нм и 193 нм. В 2001 году ASML приобрела американскую компанию Silicon Valley Group (SVG), что позволило расширить портфель технологий. В 2007 году компания выкупила долю ASMI и стала полностью независимой, изменив название на ASML Holding N.V.

Прорыв в EUV-литографии

С 2010-х годов ASML активно инвестировала в технологию экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) с длиной волны 13,5 нм. В 2016 году компания завершила поглощение американской компании Cymer, специализирующейся на источниках света для EUV, и немецкой компании Carl Zeiss SMT, производящей оптические системы. Первая коммерческая EUV-система (модель NXE:3400B) была поставлена заказчику в 2018 году.

Современный этап

К 2023 году ASML стала единственным в мире производителем EUV-систем, используемых для выпуска самых передовых чипов (например, с техпроцессами 5 нм и 3 нм). В 2024 году компания начала поставки систем High-NA EUV (числовая апертура 0,55), предназначенных для техпроцессов 2 нм и ниже.

Продукция и технологии

Основные типы литографических систем

ASML производит три основных класса литографических систем:

• DUV-системы (глубокий ультрафиолет, длина волны 248 нм и 193 нм) — используются для массового производства чипов по техпроцессам от 180 нм до 7 нм. Включают модели серий TWINSCAN NXT и XT.
• EUV-системы (экстремальный ультрафиолет, длина волны 13,5 нм) — применяются для самых передовых техпроцессов (от 7 нм и ниже). Основная модель — NXE:3400C, а также более новые NXE:3600D и NXE:3800E.
• High-NA EUV-системы (EUV с высокой числовой апертурой 0,55) — следующее поколение, предназначенное для техпроцессов 2 нм и менее. Первая система EXE:5000 была поставлена в 2024 году.

Ключевые технологии

• TWINSCAN — платформа, позволяющая одновременно экспонировать одну пластину и выравнивать другую, что повышает производительность.
• Мультипучковые электронные микроскопы (e-beam) — используются для контроля качества фотошаблонов и пластин.
• Системы метологии — оборудование для измерения и контроля параметров литографических процессов (например, YieldStar).

Программное обеспечение

ASML разрабатывает программное обеспечение для моделирования и оптимизации литографических процессов, включая пакет Brion (приобретён в 2010 году) и систему управления производством.

Рынок и конкуренты

Монопольное положение

По состоянию на 2025 год ASML занимает доминирующее положение на рынке литографического оборудования. В сегменте EUV-систем компания является единственным поставщиком. В сегменте DUV-систем основными конкурентами являются японские компании Canon и Nikon, однако их доля на рынке передовых DUV-систем (с длиной волны 193 нм) значительно меньше.

Основные заказчики

Крупнейшими клиентами ASML являются производители полупроводников: TSMC (Тайвань), Samsung Electronics (Южная Корея), Intel (США), SK Hynix (Южная Корея), Micron Technology (США), а также китайские компании, такие как SMIC.

Экспортные ограничения

В 2019–2024 годах правительство Нидерландов по согласованию с США ввело ограничения на экспорт передовых литографических систем (включая EUV и некоторые модели DUV) в Китай. Это привело к снижению поставок в КНР и усилению контроля за технологиями.

Финансовые показатели

Выручка ASML в 2024 году составила около 28 миллиардов евро, чистая прибыль — около 8 миллиардов евро. Компания входит в число крупнейших по рыночной капитализации в Европе (более 300 миллиардов евро по состоянию на начало 2025 года). Основные расходы связаны с исследованиями и разработками (около 15% выручки) и производством.

Критика и ограничения

Технологические риски

EUV-литография требует высокой точности и вакуумных условий, что делает системы дорогими (стоимость одной EUV-системы превышает 150 миллионов евро). Высокая стоимость ограничивает круг потенциальных заказчиков.

Зависимость от поставщиков

ASML критически зависит от поставок компонентов от сторонних компаний, в частности от Carl Zeiss SMT (оптика) и Cymer (источники света). Любые сбои в цепочках поставок могут привести к задержкам производства.

Геополитические риски

Экспортные ограничения, введённые против Китая, создают неопределённость для бизнеса ASML, так как китайский рынок является одним из крупнейших по объёму закупок DUV-систем.

Интересные факты

• Название компании изначально было аббревиатурой от Advanced Semiconductor Materials Lithography, но впоследствии стало использоваться как самостоятельный бренд.
• Каждая EUV-система весит около 180 тонн и требует для транспортировки нескольких грузовых самолётов.
• В 2023 году ASML объявила о планах инвестировать 1 миллиард евро в расширение производства в Нидерландах, включая строительство нового завода в Велдховене.

Источники

• Официальный сайт ASML — asml.com
• Годовой отчёт ASML за 2024 год
• Статья «ASML: The Dutch Company That Makes the World’s Most Advanced Chips» — Bloomberg, 2023
• «EUV Lithography: The Technology That Powers the Chip Industry» — IEEE Spectrum, 2022
• «Export Controls on Semiconductor Equipment: The Case of ASML» — Carnegie Endowment for International Peace, 2024